n.jet semicon advanced


Haupteigenschaften:

  • Hochpräziser Tintenstrahldruck
  • Tropfenplatzierungsgenauigkeit von besser als 5 μm
  • Hohe Gleichmäßigkeit
  • Bis zu 8 verschiedene Fluide in einem Druck
  • Unterstützt Druckköpfe aller großen Hersteller

Benutzerfreundlichkeit & Wartung

Die "n.jet semicon" Plattform bietet Lösungen für eine große Vielfalt von Anwendungen. Unsere Druckstrategien erhöhen die Nutzbarkeit der Plattform und die Prozessausbeute, indem sie den Bedarf an manuellen Eingriffen oder manueller mechanischer Ausrichtung der Druckköpfe minimieren. Unser praxiserprobtes, fortschrittliches Druckkopf-Wartungssystem erhöht die Betriebszeit der Plattform. Kein direkter Kontakt mit der Düsenplatte des Druckkopfs führt zu einer höheren Strahlstabilität und einer längeren Lebensdauer des Druckkopfs. Unsere automatisierte Düsenkalibrierung und die fortschrittlichen Strategien für den Düsenwechsel bieten Ihnen eine vollständige Prozesskontrolle und zuverlässige Ergebnisse.

Automatisierung & Prozessintegration

Die "n.jet semicon" Plattform verfügt über ein optionales Waferhandling für verschiedene Substratgrößen und kann mit weiteren Vor- und Nachbearbeitungsstationen ausgestattet werden, um eine vollständig integrierte Lösung für Ihre Prozessanforderungen zu bieten:

  • Roboterhandling von/zu Kassetten inkl. Wafermapping & Vorausrichtung
  • Plasmareinigung, Hotplates, UV-Härtung und mehr


Unser Automatisierungspartner.
https://www.osiris-nano.com/