n.jet semicon lab coater

für Fotolack und Kleberbeschichtung

Der "n.jet semicon lab coater" ist ein neues Prozesswerkzeug für typische Nassbeschichtungsanwendungen von Wafern und anderen Substraten. Das neu konzipierte Drucksystem bietet eine exzellente Beschichtungsgleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit für bis zu 200 mm Wafer oder bis zu 6" x 6“ Substrate. Das System eignet sich für die Prozessentwicklung und die Kleinserienproduktion. Der Stand-Alone-Schrank des "n.jet semicon basic" wurde speziell für eine einfache Bedienung und Wartung konzipiert. Der Prozessbereich ist leicht zu reinigen und ist resistent gegen typische Reinigungsmittel. Dieses System wird hauptsächlich in Branchen wie Halbleiter, Optik und Präzisionsteile eingesetzt.

Eigenschaften:

  • Runde Wafer bis zu 200 mm (8 Zoll)
  • Quadratische Substrate bis zu 150 x 150 mm (6 x 6 Zoll)
  • Controller unit via touch screen
  • Schnelle Beschichtung unterschiedlicher Materialien
  • Selektive Beschichtung, Druck wo gewünscht
  • Sehr dünne Materialbeschichtung in Kombination mit Spin Coating <100 nm
  • Sowohl lösungsmittelhaltige als auch lösemittelfreie Materialien
  • Keine Notwendigkeit zur Randentschichtung (EBR) durch digital optimierte Beschichtung
  • Nass-in-nass Verarbeitung (Materialdurchmischung)
  • Konzipiert für die Kantenbeschichtung auf Wafern und Substraten
  • Konzipiert für F&E-Institute oder den Laborbetrieb

Optionen:

  • Verschiedene Bearbeitungstische
    -> beheizbar bis zu 60°C
  • Nachfüllstation