Automatisierte kombinierte Cluster-Systeme

n-varixx-SERIE

  • Flexible Konfiguration von Verarbeitungsmodulen
  • Handhabung von dünnen, Standard- oder gebondeten Wafern (Si, Glas & andere)
  • Runde Wafer bis zu Ø300 mm (Ø12 Zoll)
  • Quadratische Substrate bis zu einer Größe von 230 x 230 mm (9 x 9 Zoll)

Optionale Subsysteme: Wafer-Flipper, PR-Dispenser (Pumpen, Spritzen, CPD) und Medienversorgung
Schränke mit verschiedenen Kanisterausführungen.

Hauptmerkmale

SPIN COATER

Anwendungen:

Spin-Coating mit Covered Chuck Processor (CCP) oder Open Bowl

SPRAY COATER

Anwendungen:

Spray Coating für alle Topografien und Formen

HOTPLATES

Anwendungen:

Softbake (Vorbacken), Hardbake, HMDS: Dampfgrundierung, Vakuumtrocknung, Kühlplatten

DEVELOPER

Anwendung:

Entwickeln, Reinigen, Trocknen

BONDING/DEBONDING

Substrate:

Glas, Saphir, Silizium, Keramik, andere Materialien auf Anfrage

INKJET DRUCK

Hochpräziser Inkjet-Druck für alle Substrattypen und Wafergrößen

Weitere Verarbeitungssysteme

n.unixx

Halbautomatische Systeme für Laboranwendungen

n.chemixx

Nassverarbeitungssysteme

 

n.maxx

Systeme für große Substrate