n.jet semicon lab coater

蚀影/黏合剂涂料

n.jet semicon lab coater 是一种新的工艺装置,适用于晶圆和其他基材的典型湿式涂布应用。新设计的打印系统可为大至 200 毫米的晶圆或达 6“ x 6” 的基材,提供出色的涂层均匀性和高重复性。此系统相当适合工艺开发和小规模生产。n.jet semicon basic 的独立机柜经过专门设计,易于操作和维护。制成区域易于清洁,并且耐常用的清洁溶剂。该系统主要用于半导体、光学和精密零件等行业。

特色:

  • 半径达200 mm (8 inch) 的晶圆
  • 大至150 x 150 mm (6 x 6 inch) 的方形基板
  • 以触​​碰屏幕为控制介面
  • 可快速涂布不同材料
  • 选择性涂布:仅涂布需要之处
  • 可以旋涂方式涂布材料:涂层厚度可 < 100nm
  • 材料选择:溶剂型、非溶剂型皆可
  • 由于已进行了数位优化,无需特别去除边缘颗粒
  • 湿膜加工(材料混合)
  • 特别为了晶圆和基材边缘涂布而设计
  • 特别为了RD机构和实验室而设计

可自由选择:

  • 各种平台样式
  • 可加热至60°C的平台
  • 墨水填充站